操控简单、维护方便；工艺精细、灵活拓展；更好用，更安全。

用于印刷电路板、晶圆、电子元器件，有效去除焊料残留、助焊剂、颗粒物等污染物；芯片制造封装过程，高效清除芯片表面的尘埃、金属颗粒、有机物残留等杂质；光学镜头、棱镜、滤光片等光学元件，去除沾染的油脂、灰尘、颗粒物等污染物；微型手术器械、医用传感器等精密医疗器械清洗，以及同种异体骨、组织神经清洗；出土文物保护工作，在无损前提下净化文物；催化剂再生，助力清除催化剂表面的积炭、毒物及杂质，恢复活性；核反应设备零部件清洗，实现污染减量化；精密工装清洗，清理复杂零部件微缝微孔中残留的污染物；高档服装服饰织物清洗，包括婴幼儿衣物、女性贴身衣物、贵重饰物清洗等。适用于大学、科研院所、企业实验室、研究中心及生产现场等单位机构。

功能体验

• 工艺积淀深厚：融入28年超临界清洗工艺研发经验，深度嵌入装置设计，助力科研创意实现；
• 多重安全防护：关键参数点位配置多重独立防护，高低搭配、“软硬”协同；
• 全程可视监测：实时观测样品清洗状态，动态调控工艺参数，精准把控清洗全过程进度；
• 智能便捷操控：人性化操作界面，参数预设完毕后，设备全程自动运行管控；
• 精密无损清洗：精密注入泄压，工艺调控灵活，样品无损，数据精准可靠，成功率更高；
• 人体工学设计：操作轻便密封可靠，优化作业体位，缓解人员劳损，保障科研效能；
• 数据稳定可溯：全域采集运行参数，测控精准，结果重现性优，支撑成果转化与规模化应用；
• 模块化可拓展：模块化设计，便捷升级改造，拓宽应用场景，延长使用寿命，持续为您创造价值；
• 长效服务护航：卓尔实验室®提供长期技术支持，开放定制化联合与协同研发服务。

 配置参数

• 最高操作压力可达30MPa；
• 最高操作温度可达80℃；
• 温度控制精度：±0.5℃；
• 根据不同物料所需清洗工艺，仪器差异化设计提供；
• 清洗室腔可选500ml、1000ml、5L、10L、20L，29L，其他容积规格可定制；
• 清洗釜结构及工艺管路针对不同清洗物料差异化设计；
• 超临界清洗工艺过程控制和安全防护系统；
• 程序设定、一键启动全自动清洗、远程数据传输监控（选配）；
• 蓝宝石视窗（选配）；
• 辅助强化：磁力搅拌转速0～2000rpm，其他转速可定制，其他辅助强化模块可定制（选配）；
• 电子背压控制（选配）；
• 质量流量计（选配）。

 想要选择一款最适合您使用的超临界清洗装置？请与卓尔的客户服务经理或技术支持人员取得联系。